| ■製品案内 |
| ●卓上蒸着装置 | ||
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成膜方法 | 抵抗加熱方式 AC 1 φ 100V（50/60Hz） 15A |
| 到達圧力 | 5.0×10-4Pa 以下 | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、油回転ポンプ | |
| 装置サイズ | W780ｘＤ600ｘＨ636 | |
| 備考 | 型式：RD24-0001 バッチ式 | |
| ●VLS成膜装置 | ||
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成膜方法 | VLS方式（Vapor-liquid-solid成長法） |
| 基板サイズ | 3" | |
| 到達圧力 （成膜室） |
5.0ｘ10-5Pa以下 | |
| 到達圧力 （ヒータ室） |
1.0ｘ10-4Pa以下 | |
| 到達圧力 （ロードロック室） |
1.0ｘ10-4Pa以下 | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、ドライポンプ | |
| 装置サイズ | W2070ｘＤ1265ｘH1750 | |
| 備考 | 型式：TW19-0016 L/L室+ヒータ室+成膜室の3室構成 | |
| ●金属MBE装置 | ||
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成膜方法 | MBE方式(分子線エピタキシー法) |
| 到達圧力 | 5.0ｘ10-5Pa以下 | |
| 排気系 | チタンゲッタポンプ、イオンポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、油回転ポンプ | |
| 装置サイズ | W2883ｘD1411ｘＨ1940 | |
| 備考 | 型式：UT20-0010 基板加熱ヒーターは1000℃対応 |
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| ●2室構成スパッタ装置 | ||
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成膜方法 | スパッタ方式 2インチカソード3本搭載 |
| 到達圧力 | 5.0ｘ10-5Pa以下 | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ+油回転ポンプ | |
| 装置サイズ | W2390ｘD762ｘH1858 | |
| 備考 | 型式：UT23-0003 ロードロック室+成膜室の2室構成 | |
| ●イオンビームミキシング装置 | ||
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成膜方法 | EB蒸着+イオンビーム方式 |
| 到達圧力 | 3.0ｘ10-4Pa以下 | |
| 排気系 | クライオポンプ+油回転ポンプ | |
| 装置サイズ | W2410ｘＤ1660ｘＨ1800 | |
| 備考 | 型式：UT20-0015 | |
| ●切断機 | ||
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目的・用途 | 試作ゴム製品の切断 |
| 安全装置 | 非常停止ボタン、足蹴り板 | |
| カッター昇降 | 油圧式 10t | |
| 装置サイズ | W1300ｘＤ870ｘＨ2320 | |
| 備考 | 型式：TW21-0014 | |
| ●ベアリング試験装置 | ||
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目的・用途 | 真空中での試作ベアリングの試験 |
| 到達圧力 | 1.0ｘ10-5Pa以下 | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、ドライポンプ | |
| 装置サイズ | W860ｘD680ｘＨ1056 | |
| 備考 | 型式：TW17-0007 | |
| ●Cu2O成膜装置 | ||
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成膜方法 | スパッタリング+ALD（原子層堆積法）方式 |
| 到達圧力 | 5.0ｘ10-5Pa以下 | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、油回転ポンプ | |
| 装置サイズ | W3835ｘＤ3895ｘＨ2131 | |
| 備考 | 型式：TW20-0001 構成：Cu2O成膜室、ALD室、L/L室、基板予備加熱室 |
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| ●真空加熱炉 | ||
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チャンバ形状 | 円筒型／横置きタイプ／胴体水冷ジャケットおよび扉 水冷巻 |
| 均熱寸法 | W150mm×H150mm×L200mm | |
| ヒーター | Mo製 | |
| 最高加熱温度 | 1200℃ | |
| 温度分布 | ±10℃以内（800℃時 □200のエリアのみ） | |
| 昇温速度 | 10℃/min | |
| 排気系 | ターボ分子ポンプ、ドライポンプ | |
| 到達圧力 | 10-5Pa台（1×10-4Pa以下）※ワーク無挿入時の値 | |
| ユーティリティ | 冷却水15L/min 電力1φ200V 60A以下 | |